Назначение:

Вакуумно-технологическая установка «CarolineD12А» предназначена для магнетронного, термического и ионно-лучевого напыления на керамические, кремниевые, ситаловые и другие плоские (толщина не более 30 мм.) подложки Ø до 100 мм.

Мишени на магнетронах располагаются горизонтально. Над ними располагается карусель, вращающаяся в горизонтальной плоскости. На карусели размещены носители, в которых закреплены подложки. Обработка изделий производится в горизонтальной плоскости, материал распыляется с низу вверх.

Установка может быть укомплектована любым набором технологических устройств на пяти рабочих позициях: магнетрон (от 1-го до 5-ти шт.), источник ионов (для предварительной очистки и травления подложек), термический испаритель и устройство ионного распыления (занимает две позиции).

Установка обеспечивает:

· очистку поверхности изделий перед напылением с целью улучшения адгезии напыляемых слоев с помощью ионного источника постоянного тока;

· нагрев изделий до заданной температуры, контроль и поддержание температуры в процессе напыления слоев;

· стабилизацию заданного расхода технологических газов по трем каналам и контроль расхода газа по каждому каналу;

· отпыливание мишени любого технологического устройства для напыления на управляемую заслонку;

· автоматическое выполнение программ «от загрузки до разгрузки»;

· контроль и автоматическое окончание напыления резистивных и металлических пленок по заданному времени или по заданному сопротивлению свидетеля, а также по кварцевому измерителю толщины (дополнительная опция);

· размещение изделий на легкосъемных носителях с целью сокращения времени загрузки и выгрузки;

· для удобства обслуживания внутрикамерных устройств и смены носителей крышка установки «Caroline D12A» снабжена механизмом подъема и отвода в сторону;

На установках этого типа были реализованы следующие технологии:

· напыление любых резистивных плёнок, в частности РС — 3710 с поверхностным сопротивлением 20÷1000 Ом/… и более

· напыление нитрида тантала с поверхностным сопротивлением 20÷150 Ом/… и ТКС менее 5×10−5

· напыление толстых (до 15 мкм. и более) слоев металла

· напыление последовательных слоев РС и металла в одном цикле

· напыление двуокиси кремния и нитрида кремния из кремниевой мишени

· напыление пленок титана и тантала, их нитридов или оксидов

Количество подложек обрабатываемых за 1 цикл	12 шт. Ø100 мм. 24 шт. 60×48 (без переворота)
Предусмотрен визуальный контроль в позициях термических испарителей
Автономное управление заслонками на всех позициях напыления
Расход подаваемых в камеру рабочих газов по каждому каналу, л/час	0 ÷ 9
Количество подаваемых (неагрессивных) газов, шт.	до 3
Количество устройств очистки изделий, шт.	1
Возможна установка термических испарителей, шт.	до 3
Возможна установка магнетронов, шт.	до 5
Тип магнетронов для напыления пленок	Импульсный среднечастотный
Рабочий ток магнетронов регулируемый, А	до 7
Рабочее напряжение магнетронов, В	до 650
Размер мишеней (могут использоваться составные мишени не прямого охлаждения), мм.	Ø100×4÷12
Допустимое давление в камере при работе магнетронов, Па	0,07÷0,3
Предусмотрен вариант напыления на охлаждаемую подложку с подачей смещения 100 КГц, мощность генератора смещения до 1 КВА	опция
Диапазон контроля сопротивления свидетеля, кОм	0,2÷20
Погрешность измерения сопротивления, %	±1
Предусмотрен вариант установки кварцевого измерителя толщины в любой позиции напыления	опция
Рекомендуемая температура нагрева подложек, °С (max 300°С)	50÷250
Нестабильность температуры подложек, %	±5
Предельное остаточное давление в рабочей камере, Па	8x10−4
Время подготовки установки к работе с учетом «разгона» крионасоса не более, мин.	120
Габаритные размеры агрегата технологического «Caroline D12A» (ширина x глубина x высота) с открытой крышкой, мм.	1315×1430×2100
Масса со стойкой питания и управления, кг.	до 1850